陜西陶瓷加熱盤(pán)定制

面向深紫外光刻工藝對(duì)晶圓預(yù)處理的需求，國(guó)瑞熱控配套加熱盤(pán)以微米級(jí)溫控助力圖形精度提升。采用鋁合金基體與石英玻璃復(fù)合結(jié)構(gòu)，加熱面平面度誤差小于 0.01mm，確保晶圓與光刻掩膜緊密貼合。通過(guò)紅外加熱與接觸式導(dǎo)熱協(xié)同技術(shù)，升溫速率達(dá) 15℃/ 分鐘，溫度調(diào)節(jié)范圍 60℃-120℃，控溫精度 ±0.3℃，適配光刻膠軟烘、堅(jiān)膜等預(yù)處理環(huán)節(jié)。表面經(jīng)防反射涂層處理，減少深紫外光反射干擾，且具備快速冷卻功能，從 120℃降至室溫*需 8 分鐘，縮短工藝間隔。與上海微電子光刻機(jī)適配，使光刻圖形線寬偏差控制在 5nm 以內(nèi)，滿足 90nm 至 28nm 制程的精密圖形定義需求。創(chuàng)新熱傳導(dǎo)技術(shù)，熱量集中不散失，有效降低能源消耗成本。陜西陶瓷加熱盤(pán)定制

國(guó)瑞熱控清洗槽**加熱盤(pán)以全密封結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)適配高潔凈需求，采用 316L 不銹鋼經(jīng)電解拋光處理，表面粗糙度 Ra 小于 0.05μm，無(wú)顆粒脫落風(fēng)險(xiǎn)。加熱元件采用氟塑料密封封裝，與清洗液完全隔離，耐受酸堿濃度達(dá) 90% 的腐蝕環(huán)境，電氣強(qiáng)度達(dá) 2000V/1min。通過(guò)底部波浪形加熱面設(shè)計(jì)，使槽內(nèi)溶液形成自然對(duì)流，溫度均勻性達(dá) ±0.8℃，溫度調(diào)節(jié)范圍 25℃-120℃。配備防干燒與泄漏檢測(cè)系統(tǒng)，與盛美上海等清洗設(shè)備廠商適配，符合半導(dǎo)體制造 Class 1 潔凈標(biāo)準(zhǔn)，為晶圓清洗后的表面質(zhì)量提供保障。陜西陶瓷加熱盤(pán)定制模塊化設(shè)計(jì)，便于維護(hù)更換，減少停機(jī)提升產(chǎn)能。

國(guó)瑞熱控 8 英寸半導(dǎo)體加熱盤(pán)聚焦成熟制程需求，以高性價(jià)比與穩(wěn)定性能成為中低端芯片制造的推薦。采用鋁合金基體經(jīng)陽(yáng)極氧化處理，表面平整度誤差小于 0.03mm，加熱面溫度均勻性控制在 ±2℃以內(nèi)，滿足 65nm 至 90nm 制程的溫度要求。內(nèi)部采用螺旋狀鎳鉻加熱絲，熱效率達(dá) 85% 以上，升溫速率 15℃/ 分鐘，工作溫度上限 450℃，適配 CVD、PVD 等常規(guī)工藝。設(shè)備配備標(biāo)準(zhǔn)真空吸附接口與溫控信號(hào)端口，可直接替換 ULVAC、Evatec 等國(guó)際品牌同規(guī)格產(chǎn)品，安裝無(wú)需調(diào)整現(xiàn)有生產(chǎn)線布局。通過(guò) 1000 小時(shí)高溫老化測(cè)試，故障率低于 0.1%，為功率器件、傳感器等成熟制程芯片制造提供穩(wěn)定支持。

國(guó)瑞熱控快速退火**加熱盤(pán)以高頻響應(yīng)特性適配 RTP 工藝需求，采用紅外輻射與電阻加熱復(fù)合技術(shù)，升溫速率突破 50℃/ 秒，可在數(shù)秒內(nèi)將晶圓加熱至 1000℃以上。加熱盤(pán)選用低熱慣性的氮化鋁陶瓷材質(zhì)，搭配多組**溫控模塊，通過(guò) PID 閉環(huán)控制實(shí)現(xiàn)溫度快速調(diào)節(jié)，降溫速率達(dá) 30℃/ 秒，有效減少熱預(yù)算對(duì)晶圓性能的影響。表面噴涂抗熱震涂層，可承受反復(fù)快速升降溫循環(huán)而無(wú)開(kāi)裂風(fēng)險(xiǎn)，使用壽命超 20000 次循環(huán)。設(shè)備集成溫度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，與應(yīng)用材料 Centura、東京電子 Trias 等主流爐管設(shè)備兼容，為先進(jìn)制程中的離子***、缺陷修復(fù)工藝提供可靠支持。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊合理，安裝維護(hù)簡(jiǎn)便快捷，有效提升設(shè)備使用效率。

針對(duì) 12 英寸及以上大尺寸晶圓的制造需求，國(guó)瑞熱控大尺寸半導(dǎo)體加熱盤(pán)以創(chuàng)新結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高效溫控。產(chǎn)品采用多模塊拼接式結(jié)構(gòu)，單模塊加熱面積可達(dá) 1500cm2，通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化接口可靈活組合成更大尺寸加熱系統(tǒng)，適配不同產(chǎn)能的生產(chǎn)線需求。每個(gè)模塊配備**溫控單元，通過(guò)**控制系統(tǒng)協(xié)同工作，確保整個(gè)加熱面溫度均勻性控制在 ±1.5℃以內(nèi)。采用輕量化**度基材，在保證結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性的同時(shí)降低設(shè)備重量，便于安裝與維護(hù)。表面經(jīng)精密加工確保平整度，與大尺寸晶圓完美貼合，減少熱傳導(dǎo)損耗，為先進(jìn)制程中大規(guī)模晶圓的均勻加熱提供可靠解決方案。熱響應(yīng)速度快，快速達(dá)溫穩(wěn)定，減少等待時(shí)間提升效率。中國(guó)澳門(mén)晶圓鍵合加熱盤(pán)非標(biāo)定制

工作溫度范圍寬泛，滿足低溫烘烤至高溫?zé)Y(jié)需求。陜西陶瓷加熱盤(pán)定制

為解決加熱盤(pán)長(zhǎng)期使用后的溫度漂移問(wèn)題，國(guó)瑞熱控開(kāi)發(fā)**校準(zhǔn)模塊，成為半導(dǎo)體生產(chǎn)線的精度保障利器。模塊采用鉑電阻與熱電偶雙傳感設(shè)計(jì)，測(cè)溫精度達(dá) ±0.05℃，可覆蓋室溫至 800℃全溫度范圍，適配不同材質(zhì)加熱盤(pán)的校準(zhǔn)需求。配備便攜式數(shù)據(jù)采集終端，支持實(shí)時(shí)顯示溫度分布曲線與偏差分析，數(shù)據(jù)可通過(guò) USB 導(dǎo)出形成校準(zhǔn)報(bào)告。校準(zhǔn)過(guò)程無(wú)需拆卸加熱盤(pán)，通過(guò)磁吸式貼合加熱面即可完成檢測(cè)，單臺(tái)設(shè)備校準(zhǔn)時(shí)間縮短至 30 分鐘以內(nèi)。適配國(guó)瑞全系列半導(dǎo)體加熱盤(pán)，同時(shí)兼容 Kyocera、CoorsTek 等國(guó)際品牌產(chǎn)品，幫助企業(yè)建立完善的溫度校準(zhǔn)體系，確保工藝參數(shù)的一致性與可追溯性。陜西陶瓷加熱盤(pán)定制

無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中，一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取，不斷制造創(chuàng)新的市場(chǎng)高度，多年以來(lái)致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)，在江蘇省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的商業(yè)口碑，成績(jī)讓我們喜悅，但不會(huì)讓我們止步，殘酷的市場(chǎng)磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志，和諧溫馨的工作環(huán)境，富有營(yíng)養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開(kāi)拓創(chuàng)新，勇于進(jìn)取的無(wú)限潛力，無(wú)錫市國(guó)瑞熱控科技供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來(lái)，回首過(guò)去，我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績(jī)而沾沾自喜，相反的是面對(duì)競(jìng)爭(zhēng)越來(lái)越激烈的市場(chǎng)氛圍，我們更要明確自己的不足，做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備，要不畏困難，激流勇進(jìn)，以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家，共同走向輝煌回來(lái)！