半導(dǎo)體制造對工藝潔凈度和精度要求極高，任何微小的污染或損傷都可能導(dǎo)致器件失效。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過其低損傷特性，在清洗和刻蝕步驟中發(fā)揮重要作用。例如，在先進(jìn)節(jié)點芯片的制造中，RPS遠(yuǎn)程等離子源可用于去除光刻膠殘留或蝕刻副產(chǎn)物，而不會對脆弱的晶體管結(jié)構(gòu)造成影響...

接觸角測量儀是一種基于表面物理化學(xué)原理，用于量化表征固體表面潤濕性能的精密檢測設(shè)備。其原理圍繞 “接觸角” 這一關(guān)鍵指標(biāo)展開 —— 當(dāng)液體滴落在固體表面并達(dá)到熱力學(xué)平衡時，液體表面張力、固體表面自由能與液 - 固界面張力三者相互作用，形成液體與固體表面的夾角，...

涂料行業(yè)是接觸角測量儀的重要應(yīng)用領(lǐng)域之一，晟鼎精密接觸角測量儀通過測量涂料在基材表面的接觸角，評估涂層的潤濕性、附著力、耐水性等關(guān)鍵性能，指導(dǎo)涂料配方優(yōu)化與施工工藝調(diào)整，提升涂料產(chǎn)品質(zhì)量與市場競爭力。在涂層潤濕性評估中，涂料在基材表面的接觸角直接影響涂層的鋪展...

RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域已深度擴(kuò)展至2.5D/3D先進(jìn)封裝技術(shù)中。在硅通孔（TSV）工藝中，深硅刻蝕后會在孔內(nèi)留下氟碳聚合物側(cè)壁鈍化層，必須在導(dǎo)電材料填充前將其完全去除，否則會導(dǎo)致電阻升高或互聯(lián)開路。RPS遠(yuǎn)程等離子源利用其產(chǎn)生的氟捕獲劑或還原性自由基，能選...

接觸角測量儀的光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)成與測量精度保障：圖像傳感器采用 130 萬 - 500 萬像素的 CMOS 工業(yè)相機(jī)，幀率≥30fps，可實時采集接觸角圖像，且具備圖像降噪功能，減少環(huán)境光干擾導(dǎo)致的圖像噪聲。此外，光學(xué)系統(tǒng)還包含偏振矯正模塊，可消除樣品表面反光對圖像...

遠(yuǎn)程等離子體源RPS腔體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)氣口，點火口，回流腔連通電離腔頂端與進(jìn)氣腔靠近進(jìn)氣口一側(cè)頂部，氣體由進(jìn)氣口進(jìn)入經(jīng)過進(jìn)氣腔到達(dá)電離腔，點火發(fā)生電離反應(yīng)生成氬離子然后通入工藝氣體，通過出氣口排出至反應(yīng)室內(nèi)，部分電離氣體經(jīng)回流腔流至進(jìn)氣腔內(nèi)，提高腔體內(nèi)部電離程度...

晟鼎精密接觸角測量儀的配套軟件具備完善的數(shù)據(jù)處理與報告生成功能，可實現(xiàn)接觸角數(shù)據(jù)的精細(xì)分析、統(tǒng)計與歸檔，為材料研發(fā)與質(zhì)量控制提供標(biāo)準(zhǔn)化的數(shù)據(jù)輸出，滿足企業(yè)對檢測流程規(guī)范化的需求。數(shù)據(jù)處理功能包括：接觸角計算（支持自動與手動計算，自動計算基于邊緣檢測算法，手動計...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在納米壓印工藝中的關(guān)鍵作用在納米壓印模板清洗中，RPS遠(yuǎn)程等離子源通過H2/N2遠(yuǎn)程等離子體去除殘留抗蝕劑，將模板使用壽命延長至1000次以上。在壓印膠處理中，采用O2/Ar遠(yuǎn)程等離子體改善表面能，將圖案轉(zhuǎn)移保真度提升至99.9%。實測數(shù)據(jù)顯...

晟鼎精密接觸角測量儀的表面自由能計算功能，基于表面物理化學(xué)中的界面張力理論，通過測量兩種或兩種以上已知表面張力的液體在固體表面的接觸角，結(jié)合特定數(shù)學(xué)模型計算固體表面的表面自由能及各分量（色散分量、極性分量、Lewis 酸堿分量），實現(xiàn)對固體表面性能的深度量化分...

一般的表面處理后，如何有效的通過接觸角測量儀進(jìn)行潤濕性測量？接觸角和表面張力在潤濕和涂層的測量方式：材料表面的性質(zhì)對于處理和使用與體積特性同等重要。在粘合，印刷或涂覆時，清潔度，表面自由能和粗糙度是決定性的因素。在污垢和水存在下的潤濕性和粘附性也與許多材料和應(yīng)...

表面自由能計算功能作為晟鼎精密接觸角測量儀的擴(kuò)展功能，在材料研發(fā)、工藝優(yōu)化、質(zhì)量控制等環(huán)節(jié)具有重要應(yīng)用價值。在材料成分分析中，通過表面自由能的分量占比，可判斷材料表面的化學(xué)組成，例如極性分量占比高說明材料表面含羥基（-OH）、羧基（-COOH）等極性基團(tuán)，色散...

顯示面板制造（如OLED或LCD）涉及多層薄膜沉積，腔室污染會直接影響像素均勻性和亮度。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過非接觸式清洗，有效去除有機(jī)和無機(jī)殘留物，確保沉積工藝的重復(fù)性。其高均勻性特性特別適用于大尺寸基板處理，避免了邊緣與中心的清潔差異。同時，RPS遠(yuǎn)程等離...

傳統(tǒng)等離子清洗技術(shù)（如直接等離子體）常因高能粒子轟擊導(dǎo)致工件損傷，尤其不適用于精密器件。相比之下，RPS遠(yuǎn)程等離子源通過分離生成區(qū)與反應(yīng)區(qū)，只 輸送長壽命的自由基到處理區(qū)域，從而實現(xiàn)了真正的“軟”清洗。這種技術(shù)不僅減少了離子轟擊風(fēng)險，還提高了工藝的可控性。例如...

接觸角測量儀通過光學(xué)投影的原理，對氣、液、固三相界面輪廓進(jìn)行保真采集精密分析。接觸角測量儀測試方法包括座滴法、增液/縮液法、傾斜法、懸滴法、纖維裹附法、氣泡捕獲法、批量擬合法、插板法等?！白畏ā笔侵敢旱巫湓诠腆w表面的測試方法，又分為靜態(tài)接觸角與動態(tài)接觸角兩...

RPS遠(yuǎn)程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導(dǎo)體設(shè)備工藝腔體原子級別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場和磁場作用下，原材料氣體會被解離，從而釋放出自由基，活性離子進(jìn)入工藝室與工藝室上沉積的污染材...

接觸角的概念：所謂接觸角就是固一液界面與氣一液界面之切線在三相點處的夾角。接觸角的大小決定了潤濕程度，接觸角本身取決于界面張力的相對大小。固體表面能被液體潤濕，接觸角越小．潤濕性越大，鋪展性也愈大，當(dāng)接觸角為零時，叫完全潤濕；固體表面不被液體潤濕，說明接觸角越...

sessile drop 法（座滴法）是晟鼎精密接觸角測量儀常用的測量方法，關(guān)鍵是將一定體積的液體（通常 1-5μL）滴落在固體樣品表面，形成穩(wěn)定的液滴后，通過圖像分析計算接觸角，適用于大多數(shù)固體材料（如板材、薄膜、涂層表面）的潤濕性能檢測，是材料研發(fā)與質(zhì)量控...

三維NAND閃存堆疊層數(shù)的不斷增加，對刻蝕后高深寬比結(jié)構(gòu)的清洗帶來了巨大挑戰(zhàn)。其深孔或深溝槽底部的刻蝕殘留物（如聚合物）若不能徹底清理 ，將嚴(yán)重影響后續(xù)多晶硅或鎢填充的質(zhì)量，導(dǎo)致電荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域展現(xiàn)出其獨(dú)特優(yōu)勢。由于等離子...

在PECVD、LPCVD等薄膜沉積設(shè)備中，腔室內(nèi)壁積累的非晶硅、氮化硅等沉積物會降低熱傳導(dǎo)效率，導(dǎo)致工藝漂移。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過定制化的氣體配方（如NF3/O2混合氣體），在200-400℃溫度范圍內(nèi)實現(xiàn)高效腔室清洗。其中氟基自由基與硅基沉積物反應(yīng)生成揮發(fā)...

RPS遠(yuǎn)程等離子源（Remote Plasma Source）是一種先進(jìn)的等離子體生成技術(shù)，其主要 在于將等離子體的生成區(qū)與反應(yīng)區(qū)進(jìn)行物理分離。這種設(shè)計通過電磁場激發(fā)工作氣體（如氧氣、氮?dú)饣驓鍤猓┊a(chǎn)生高密度的等離子體，隨后利用氣流將活性自由基輸送到反應(yīng)腔室中。...

遠(yuǎn)程等離子源，是一種基于變壓器電感耦合等離子體技術(shù)的duli式自由基發(fā)生器（RPS），可以有效的解離輸入氣體。產(chǎn)生清洗或蝕刻所需的自由基(氟、氧原子等)，這些自由基通過腔室壓差傳輸，遠(yuǎn)程等離子體內(nèi)的電場保持在較低的水平，避免電荷可能損壞敏感的晶圓結(jié)構(gòu)，利用自由...

晟鼎精密的水滴角的測試方法主要是有幾種：寬高法，圓法，橢圓法，微分圓法，微分橢圓法。測值更為直接準(zhǔn)確的是晟鼎精密自主研發(fā)的微分圓法，微分橢圓法.水滴角測試方法的原理主要是將液滴滴到固體表面，通過顯微鏡頭與相機(jī)獲得液滴的外形圖像.再運(yùn)用數(shù)字圖像處理和一些算法將圖...

在OLED和LCD顯示面板的制造中，玻璃基板或聚酰亞胺薄膜基板的尺寸越來越大，對清洗和刻蝕工藝的均勻性提出了極高要求。RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在這一場景下優(yōu)勢明顯。由于其等離子體均勻性不受基板尺寸限制，活性自由基能夠均勻地分布在整個大尺寸面板表面，實現(xiàn)無死角...

離子注入是半導(dǎo)體制造中實現(xiàn)摻雜的工藝，而離子注入后需通過退火處理摻雜離子，恢復(fù)半導(dǎo)體晶格結(jié)構(gòu)，晟鼎精密 RTP 快速退火爐在此過程中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。離子注入會導(dǎo)致半導(dǎo)體晶格產(chǎn)生損傷（如空位、位錯等缺陷），且摻雜離子多處于間隙位，不具備電活性，需通過退火使晶格缺...

接觸角測量儀主要用于測量液體對固體的接觸角，即液體對固體的浸潤性，該儀器能測量各種液體對各種材料的接觸角。該儀器對石油、印染、醫(yī)藥、噴涂、選礦等行業(yè)的科研生產(chǎn)有非常重要的作用；通過測量接觸角計算表面張力、利用接觸角來判斷材料親疏水性，以便確認(rèn)物體表面的處理效果...

遠(yuǎn)程等離子體源（Remote Plasma Source，RPS）作為一種先進(jìn)的表面處理技術(shù)，正逐漸在多個工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)其獨(dú)特的價值。這種裝置通過在真空環(huán)境中產(chǎn)生等離子體，并將其傳輸?shù)侥繕?biāo)表面進(jìn)行處理，從而實現(xiàn)了對材料表面的均勻、高效改性。RPS不僅避免了傳統(tǒng)等...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在高效清洗的同時，還具有明顯 的節(jié)能和環(huán)保特性。其設(shè)計優(yōu)化了氣體利用率和功率消耗，通常比傳統(tǒng)等離子體系統(tǒng)能耗降低20%以上。此外，通過使用環(huán)保氣體（如氧氣或合成空氣），RPS遠(yuǎn)程等離子源將污染物轉(zhuǎn)化為無害的揮發(fā)性化合物，減少了有害廢物的產(chǎn)生。...

傳統(tǒng)等離子清洗技術(shù)（如直接等離子體）常因高能粒子轟擊導(dǎo)致工件損傷，尤其不適用于精密器件。相比之下，RPS遠(yuǎn)程等離子源通過分離生成區(qū)與反應(yīng)區(qū)，只 輸送長壽命的自由基到處理區(qū)域，從而實現(xiàn)了真正的“軟”清洗。這種技術(shù)不僅減少了離子轟擊風(fēng)險，還提高了工藝的可控性。例如...

晟鼎精密接觸角測量儀的表面自由能計算功能，基于表面物理化學(xué)中的界面張力理論，通過測量兩種或兩種以上已知表面張力的液體在固體表面的接觸角，結(jié)合特定數(shù)學(xué)模型計算固體表面的表面自由能及各分量（色散分量、極性分量、Lewis 酸堿分量），實現(xiàn)對固體表面性能的深度量化分...

遠(yuǎn)程等離子體源RPS腔體結(jié)構(gòu)，包括進(jìn)氣口，點火口，回流腔連通電離腔頂端與進(jìn)氣腔靠近進(jìn)氣口一側(cè)頂部，氣體由進(jìn)氣口進(jìn)入經(jīng)過進(jìn)氣腔到達(dá)電離腔，點火發(fā)生電離反應(yīng)生成氬離子然后通入工藝氣體，通過出氣口排出至反應(yīng)室內(nèi)，部分電離氣體經(jīng)回流腔流至進(jìn)氣腔內(nèi)，提高腔體內(nèi)部電離程度...