高溫環(huán)境對測量儀器的穩(wěn)定性和耐用性提出了巨大的挑戰(zhàn)。在高溫下，材料的熱膨脹、氧化等物理和化學(xué)變化都可能對測量結(jié)果產(chǎn)生影響。為了克服這些挑戰(zhàn)，高溫接觸角測量儀采用了多種先進(jìn)的技術(shù)手段。例如，通過選用耐高溫材料制作儀器的關(guān)鍵部件，提高儀器的耐高溫性能；通過優(yōu)化溫控...

RPS遠(yuǎn)程等離子源與5G技術(shù)發(fā)展的關(guān)聯(lián)5G設(shè)備需要高頻PCB和射頻組件，其性能受表面清潔度影響極大。RPS遠(yuǎn)程等離子源可用于去除鉆孔殘留或氧化物，確保信號完整性。在陶瓷基板處理中，它能清潔通孔，提升金屬化質(zhì)量。其精確控制避免了介質(zhì)損傷，保持了組件的高頻特性。隨...

柔性電子器件（柔性顯示屏、傳感器、光伏電池）制造中，柔性基板（PI、PET）對高溫敏感，傳統(tǒng)退火爐長時(shí)間高溫易導(dǎo)致基板收縮、變形或分解，影響器件性能與壽命，晟鼎精密 RTP 快速退火爐憑借低溫快速熱加工能力，在柔性電子器件制造中廣泛應(yīng)用。在柔性 OLED 制造...

接觸角測量儀是一種用于測量液體與固體表面之間相互作用力的精密設(shè)備。這種作用力通常被稱為接觸角，是液體對固體表面的潤濕性或排斥性的度量。在許多科學(xué)和工程領(lǐng)域中，接觸角測量儀都發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，特別是在界面化學(xué)研究領(lǐng)域。接觸角測量儀的重要性該儀器的主要功能是測...

常用的計(jì)算模型包括 Owens-Wendt 模型、Van Oss-Chaudhury-Good 模型（簡稱 VCG 模型）：Owens-Wendt 模型適用于多數(shù)低能固體材料（如高分子材料），需測量 2 種液體（1 種極性液體，如蒸餾水；1 種非極性液體，如二...

遠(yuǎn)程等離子體源（Remote Plasma Source，RPS）作為一種先進(jìn)的表面處理技術(shù)，正逐漸在多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)其獨(dú)特的價(jià)值。這種裝置通過在真空環(huán)境中產(chǎn)生等離子體，并將其傳輸?shù)侥繕?biāo)表面進(jìn)行處理，從而實(shí)現(xiàn)了對材料表面的均勻、高效改性。RPS不僅避免了傳統(tǒng)等...

顯示面板制造（如OLED或LCD）涉及多層薄膜沉積，腔室污染會直接影響像素均勻性和亮度。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過非接觸式清洗，有效去除有機(jī)和無機(jī)殘留物，確保沉積工藝的重復(fù)性。其高均勻性特性特別適用于大尺寸基板處理，避免了邊緣與中心的清潔差異。同時(shí)，RPS遠(yuǎn)程等離...

晟鼎精密 RTP 快速退火爐的軟件系統(tǒng)功能豐富且注重操作便捷性，為操作人員提供友好的使用體驗(yàn)，同時(shí)保障工藝執(zhí)行的精細(xì)性與穩(wěn)定性。軟件系統(tǒng)具備直觀的人機(jī)交互界面，采用圖形化設(shè)計(jì)，將溫度控制、氣體控制、真空控制（真空型設(shè)備）、數(shù)據(jù)采集等功能模塊化呈現(xiàn)，操作人員通過...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在先進(jìn)封裝工藝中的重要性: 先進(jìn)封裝技術(shù)（如晶圓級封裝或3D集成）對清潔度要求極高，殘留污染物可能導(dǎo)致互聯(lián)失效。RPS遠(yuǎn)程等離子源提供了一種溫和而徹底的清洗方案，去除鍵合界面上的氧化物和有機(jī)雜質(zhì)，提升封裝可靠性。其精確的工藝控制避免...

RPS遠(yuǎn)程等離子源的維護(hù)與壽命延長效益：設(shè)備停機(jī)時(shí)間是制造業(yè)的主要成本來源之一。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過定期清潔沉積腔室，減少顆粒污染引起的工藝漂移，從而延長維護(hù)周期。其高效的清洗能力縮短了清潔時(shí)間，提高了設(shè)備利用率。此外，RPS遠(yuǎn)程等離子源的模塊化設(shè)計(jì)便于集成...

接觸角分為靜態(tài)接觸角和動(dòng)態(tài)接觸角。靜態(tài)接觸角是指液體與固體表面相接觸時(shí)，所形成的接觸角，不隨時(shí)間變化。接觸角測量儀可以通過將固體樣品放置在水滴上并記錄其與固體表面接觸時(shí)的水滴形狀來測量靜態(tài)接觸角。該儀器會自動(dòng)計(jì)算出水滴與固體表面之間的夾角，從而得到靜態(tài)接觸角的...

在人工關(guān)節(jié)研發(fā)中，鈦合金人工關(guān)節(jié)表面需涂覆羥基磷灰石（HA）涂層以提升骨整合能力，通過接觸角測量儀測量模擬體液（如 PBS 緩沖液）在涂層表面的接觸角，可評估涂層的親水性（接觸角＜60° 時(shí)骨細(xì)胞黏附效果優(yōu)），指導(dǎo)涂層厚度與燒結(jié)工藝的優(yōu)化。晟鼎精密的接觸角測量...

RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在半導(dǎo)體前道制程中尤為關(guān)鍵，特別是在高級 邏輯芯片和存儲芯片的晶圓清洗環(huán)節(jié)。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)向5納米乃至更小尺寸邁進(jìn)，任何微小的污染和物理損傷都可能導(dǎo)致器件失效。傳統(tǒng)的濕法清洗或直接等離子體清洗難以避免圖案傾倒、關(guān)鍵尺寸改變或材料損傷等問...

captive bubble 法的典型應(yīng)用場景包括：多孔材料（如陶瓷膜、過濾膜）的潤濕性能檢測，因這類材料會吸收液滴導(dǎo)致 sessile drop 法無法形成穩(wěn)定液滴，而懸泡法可在液體環(huán)境中避免樣品吸水；透明薄膜的兩面潤濕性能對比，將薄膜浸沒后在兩側(cè)分別產(chǎn)生氣...

晟鼎精密 RTP 快速退火爐配備了人性化的操作控制系統(tǒng)，兼顧 “易用性” 與 “工藝重復(fù)性”，方便操作人員快速掌握設(shè)備使用方法，同時(shí)確保不同批次、不同操作人員執(zhí)行相同工藝時(shí)能獲得一致的處理效果。操作界面采用 10 英寸以上的觸控顯示屏，界面布局清晰，將溫度設(shè)定...

晟鼎精密接觸角測量儀之所以能實(shí)現(xiàn)≤±0.1° 的測量精度，關(guān)鍵在于其由光源、鏡頭、圖像傳感器及光學(xué)矯正組件構(gòu)成的高精度光學(xué)系統(tǒng)。光源采用波長穩(wěn)定的 LED 冷光源（波長 560-580nm），光線經(jīng)過漫射板與偏振片處理后，形成均勻、無眩光的平行光場，避免因光線...

等離子清洗機(jī)在環(huán)境可持續(xù)性方面表現(xiàn)突出，相比傳統(tǒng)清洗方法，它有效減少了化學(xué)溶劑使用和廢水排放。傳統(tǒng)濕法清洗依賴有機(jī)溶劑如氯氟烴，這些物質(zhì)可能破壞臭氧層或造成水體污染，而等離子清洗機(jī)主要使用惰性氣體或空氣，處理后排放物為無害的二氧化碳和水蒸氣，符合全...

高性能光學(xué)透鏡、激光器和光通信器件對薄膜（如增透膜、高反膜）的附著力和長期穩(wěn)定性要求極為苛刻。任何微弱的表面污染或附著力不足都可能導(dǎo)致薄膜在溫度循環(huán)或高能激光照射下脫落。RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在此發(fā)揮著關(guān)鍵的預(yù)處理作用。通過使用氧或氬的遠(yuǎn)程等離子體產(chǎn)生的自...

動(dòng)態(tài)接觸角測量功能憑借對潤濕過程的動(dòng)態(tài)捕捉能力，在多個(gè)領(lǐng)域的工藝優(yōu)化與質(zhì)量控制中發(fā)揮重要作用。在涂料行業(yè)，通過分析涂料液滴在基材表面的動(dòng)態(tài)接觸角曲線，可評估涂料的流平性：接觸角下降速率越快，說明涂料在基材表面鋪展能力越強(qiáng)，流平性越好；若曲線出現(xiàn)平臺期（接觸角長...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在MEMS制造中的精密處理：MEMS器件包含敏感的機(jī)械結(jié)構(gòu)，易受等離子體損傷。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過遠(yuǎn)程等離子體生成，消除了帶電粒子的影響，只利用中性自由基進(jìn)行清洗或刻蝕。這在釋放步驟或無償層去除中尤為重要，避免了靜電荷積累導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)粘附。此...

晟鼎遠(yuǎn)程等離子體電源RPS的應(yīng)用類型：1.CVD腔室清潔①清潔HDP-CVD腔（使用F原子）②清潔PECVD腔（使用F原子）③清潔Low-kCVD腔（使用O原子、F原子）④清潔WCVD腔（使用F原子）2.表面處理、反應(yīng)性刻蝕和等離子體輔助沉積①通過反應(yīng)替代 （...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在功率器件制造中的關(guān)鍵技術(shù)在IGBT模塊制造中，RPS遠(yuǎn)程等離子源通過優(yōu)化清洗工藝，將芯片貼裝空洞率從5%降至0.5%以下。采用H2/Ar遠(yuǎn)程等離子體在380℃條件下活化DBC基板表面，使焊料鋪展率提升至98%。在SiCMOSFET制造中，R...

RPS遠(yuǎn)程等離子源在功率器件制造中的關(guān)鍵技術(shù)在IGBT模塊制造中，RPS遠(yuǎn)程等離子源通過優(yōu)化清洗工藝，將芯片貼裝空洞率從5%降至0.5%以下。采用H2/Ar遠(yuǎn)程等離子體在380℃條件下活化DBC基板表面，使焊料鋪展率提升至98%。在SiCMOSFET制造中，R...

對于GaN、SiC等化合物半導(dǎo)體和MEMS傳感器等精密器件，傳統(tǒng)的等離子體工藝因其高能離子轟擊和熱效應(yīng)容易造成器件性能的不可逆損傷。RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在此提供了低損傷、高精度的解決方案。在GaN HEMT器件的制造中，RPS可用于柵極凹槽的刻蝕預(yù)處理或...

接觸角是液體/固體/空氣界面與固體表面的接觸角。當(dāng)液滴被放置在光滑均勻的水平表面上時(shí)，它可能擴(kuò)散到基底上，如果發(fā)生完全潤濕，接觸角將接近零。相反，如果潤濕是部分的，則所得接觸角在材料表面能的范圍內(nèi)達(dá)到平衡。接觸角越小，基底的潤濕性或表面能就越大。接觸角是衡量表...

在科研和工業(yè)領(lǐng)域，對于材料表面性能的研究日益深入，特別是對大尺寸材料表面潤濕性的評估，成為了一個(gè)重要的研究方向。為了滿足這一需求，大尺寸接觸角測量儀應(yīng)運(yùn)而生。這種測量儀不僅具備傳統(tǒng)接觸角測量儀的功能，而且能夠應(yīng)對更大尺寸的樣品，為科研人員提供了更為廣闊的研究空...

在材料科學(xué)的基礎(chǔ)研究和新材料開發(fā)中，獲得一個(gè)清潔、無污染的原始表面對于準(zhǔn)確分析其本征物理化學(xué)性質(zhì)至關(guān)重要。無論是進(jìn)行XPS、AFM還是SIMS等表面分析技術(shù)，微量的表面吸附物都會嚴(yán)重干擾測試結(jié)果。RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)榇颂峁┑慕鉀Q方案。其能夠在高真空或超...

sessile drop 法（座滴法）是接觸角測量儀基礎(chǔ)、應(yīng)用廣的測量方法，適用于板材、薄膜、涂層等多數(shù)固體樣品的靜態(tài)與動(dòng)態(tài)接觸角測量。其操作流程分為三個(gè)關(guān)鍵步驟：第一步是樣品準(zhǔn)備與固定，將固體樣品平整放置于樣品臺，通過水平調(diào)節(jié)裝置確保樣品表面水平度誤差≤0....

RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在生物醫(yī)療器件，特別是微流控芯片、體外診斷（IVD）設(shè)備和植入式器械的制造中，扮演著表面功能化改性的重要角色。許多高分子聚合物（如PDMS、PC、COC）因其優(yōu)異的生物相容性和易加工性被廣 使用，但其表面通常呈疏水性，不利于細(xì)胞粘附或...

等離子清洗機(jī)在環(huán)境可持續(xù)性方面表現(xiàn)突出，相比傳統(tǒng)清洗方法，它有效減少了化學(xué)溶劑使用和廢水排放。傳統(tǒng)濕法清洗依賴有機(jī)溶劑如氯氟烴，這些物質(zhì)可能破壞臭氧層或造成水體污染，而等離子清洗機(jī)主要使用惰性氣體或空氣，處理后排放物為無害的二氧化碳和水蒸氣，符合全...