衛(wèi)生領域的陶瓷通常有疏水涂層，使得水滾落表面，并帶走水垢或污垢。表面疏水性與較大的水接觸角相關。我們的光學接觸角測量儀可在實驗室或現(xiàn)場使用無損技術測量這個變量。同時，疏水涂層的穩(wěn)定性也可在長期檢查中測量。也可以用我們的傾斜型接觸角測量滾動角，滾動角是液滴滾落或...

傳統(tǒng)等離子清洗技術（如直接等離子體）常因高能粒子轟擊導致工件損傷，尤其不適用于精密器件。相比之下，RPS遠程等離子源通過分離生成區(qū)與反應區(qū)，只 輸送長壽命的自由基到處理區(qū)域，從而實現(xiàn)了真正的“軟”清洗。這種技術不僅減少了離子轟擊風險，還提高了工藝的可控性。例如...

例如在高分子材料研發(fā)中，通過 sessile drop 法測量水在材料表面的靜態(tài)接觸角，可判斷材料的疏水性能（接觸角＞90° 為疏水，＞150° 為超疏水）；在涂層工藝優(yōu)化中，通過測量液滴鋪展過程的動態(tài)接觸角，可分析涂層的潤濕性變化速率，評估涂層的均勻性。晟鼎...

接觸角測量儀通過光學投影的原理，對氣、液、固三相界面輪廓進行保真采集精密分析。接觸角測量儀測試方法包括座滴法、增液/縮液法、傾斜法、懸滴法、纖維裹附法、氣泡捕獲法、批量擬合法、插板法等。“座滴法”是指液滴坐落在固體表面的測試方法，又分為靜態(tài)接觸角與動態(tài)接觸角兩...

sessile drop 法（座滴法）是晟鼎精密接觸角測量儀常用的測量方法，關鍵是將一定體積的液體（通常 1-5μL）滴落在固體樣品表面，形成穩(wěn)定的液滴后，通過圖像分析計算接觸角，適用于大多數固體材料（如板材、薄膜、涂層表面）的潤濕性能檢測，是材料研發(fā)與質量控...

新能源電池（如鋰離子電池、燃料電池）的電極材料表面性能（如潤濕性、吸附性）直接影響電解液浸潤效果與電荷傳輸效率，晟鼎精密接觸角測量儀在電極材料研發(fā)中，通過測量電解液在電極表面的接觸角，評估電極的潤濕性，指導電極制備工藝（如涂層厚度、孔隙率）優(yōu)化，提升電池性能。...

接觸角測量儀主要用于測量液體對固體的接觸角，即液體對固體的浸潤性，該儀器能測量各種液體對各種材料的接觸角。該儀器對石油、印染、醫(yī)藥、噴涂、選礦等行業(yè)的科研生產有非常重要的作用；通過測量接觸角計算表面張力、利用接觸角來判斷材料親疏水性，以便確認物體表面的處理效果...

水滴角是指在氣、液、固三相交點處所做的氣-液界面的切線，切線在液體一方的與固-液交接線之間的夾角，是潤濕程度的主要量化方式.水滴角測試現(xiàn)如今已經廣泛應用于石油工業(yè)、浮選工業(yè)、醫(yī)藥材料、芯片產業(yè)、低表面能無毒防污材料、油墨、化妝品、農藥、印染、造紙、織物整理、洗...

對于GaN、SiC等化合物半導體和MEMS傳感器等精密器件，傳統(tǒng)的等離子體工藝因其高能離子轟擊和熱效應容易造成器件性能的不可逆損傷。RPS遠程等離子源應用領域在此提供了低損傷、高精度的解決方案。在GaN HEMT器件的制造中，RPS可用于柵極凹槽的刻蝕預處理或...

接觸角測量儀的表面自由能計算功能，基于表面物理化學中的界面張力理論，通過測量多種已知表面張力的液體在固體表面的接觸角，結合數學模型計算固體表面的表面自由能及各分量（色散分量、極性分量、Lewis 酸堿分量），實現(xiàn)對固體表面性能的深度量化分析。固體表面自由能是衡...

在 TOPCon（隧穿氧化層鈍化接觸）光伏電池制造中，對多晶硅薄膜的晶化退火是關鍵環(huán)節(jié)，該設備可根據多晶硅薄膜的厚度（通常為 50-200nm），設定合適的升溫速率（50-80℃/s）與恒溫溫度（800-900℃），恒溫時間 40-60 秒，使多晶硅薄膜的晶化...

接觸角測量儀的光學系統(tǒng)構成與測量精度保障：圖像傳感器采用 130 萬 - 500 萬像素的 CMOS 工業(yè)相機，幀率≥30fps，可實時采集接觸角圖像，且具備圖像降噪功能，減少環(huán)境光干擾導致的圖像噪聲。此外，光學系統(tǒng)還包含偏振矯正模塊，可消除樣品表面反光對圖像...

captive bubble 法（懸泡法）是晟鼎精密接觸角測量儀針對特殊樣品（如多孔材料、粉末壓片、透明薄膜）開發(fā)的測量方法，關鍵是將氣泡捕獲在浸沒于液體中的固體樣品表面，通過分析氣泡與固體界面的接觸角，間接獲取固體表面的潤濕性能，解決了 sessile dr...

RPS遠程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術的自成一體的原子發(fā)生器，它的功能是用于半導體設備工藝腔體原子級別的清潔，使用工藝氣體三氟化氮（NF3）/O2，在交變電場和磁場作用下，原材料氣體會被解離，從而釋放出自由基，活性離子進入工藝室與工藝室上沉積的污染材...

高性能光學透鏡、激光器和光通信器件對薄膜（如增透膜、高反膜）的附著力和長期穩(wěn)定性要求極為苛刻。任何微弱的表面污染或附著力不足都可能導致薄膜在溫度循環(huán)或高能激光照射下脫落。RPS遠程等離子源應用領域在此發(fā)揮著關鍵的預處理作用。通過使用氧或氬的遠程等離子體產生的自...

接觸角測量儀的表面自由能計算功能，基于表面物理化學中的界面張力理論，通過測量多種已知表面張力的液體在固體表面的接觸角，結合數學模型計算固體表面的表面自由能及各分量（色散分量、極性分量、Lewis 酸堿分量），實現(xiàn)對固體表面性能的深度量化分析。固體表面自由能是衡...

captive bubble 法憑借對特殊樣品的適配能力，在多個專業(yè)領域發(fā)揮重要作用。在膜材料檢測領域，可測量多孔陶瓷膜、高分子過濾膜的表面潤濕性能，評估膜材料對不同液體的滲透能力，為膜分離工藝優(yōu)化提供數據支撐；在粉末材料研究中，將粉末壓制成片狀樣品后，通過懸...

RPS遠程等離子源在半導體設備維護中的經濟效益統(tǒng)計數據顯示，采用RPS遠程等離子源進行預防性維護，可將PECVD設備平均無故障時間延長至2000小時，維護成本降低40%。在刻蝕設備中，RPS遠程等離子源將清潔周期從50批次延長至200批次，備件更換頻率降低60...

半導體制造對工藝潔凈度和精度要求極高，任何微小的污染或損傷都可能導致器件失效。RPS遠程等離子源通過其低損傷特性，在清洗和刻蝕步驟中發(fā)揮重要作用。例如，在先進節(jié)點芯片的制造中，RPS遠程等離子源可用于去除光刻膠殘留或蝕刻副產物，而不會對脆弱的晶體管結構造成影響...

遠程等離子源，是一種基于變壓器電感耦合等離子體技術的duli式自由基發(fā)生器（RPS），可以有效的解離輸入氣體。產生清洗或蝕刻所需的自由基(氟、氧原子等)，這些自由基通過腔室壓差傳輸，遠程等離子體內的電場保持在較低的水平，避免電荷可能損壞敏感的晶圓結構，利用自由...

在材料科學、冶金工程、半導體制造等領域的快速發(fā)展中，高溫接觸角測量儀憑借其獨特的技術優(yōu)勢，成為研究材料高溫界面行為的關鍵工具。該儀器通過精確測量液體與固體在高溫環(huán)境下的接觸角，揭示材料的潤濕性、表面張力及動態(tài)變化規(guī)律，為科研和工業(yè)應用提供了重要數據支持。高溫接...

在防水面料研發(fā)中，通過在滌綸面料表面涂覆聚四氟乙烯（PTFE）涂層，接觸角可從 70° 提升至 150° 以上（超疏水），實現(xiàn)防水效果；接觸角測量儀通過測量不同涂層厚度的接觸角，發(fā)現(xiàn)涂層厚度 5μm 時接觸角達 155°，繼續(xù)增加厚度接觸角無明顯提升，據此確定...

高溫環(huán)境對測量儀器的穩(wěn)定性和耐用性提出了巨大的挑戰(zhàn)。在高溫下，材料的熱膨脹、氧化等物理和化學變化都可能對測量結果產生影響。為了克服這些挑戰(zhàn)，高溫接觸角測量儀采用了多種先進的技術手段。例如，通過選用耐高溫材料制作儀器的關鍵部件，提高儀器的耐高溫性能；通過優(yōu)化溫控...

RPS遠程等離子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半導體）對界面質量極為敏感。污染會導致漏電流或擊穿電壓下降。RPS遠程等離子源提供了一種溫和的清潔方法，去除表面氧化物和金屬雜質，而不引入缺陷。其均勻的處理確保了整個晶圓上的電性能一致性...

常用的計算模型包括 Owens-Wendt 模型、Van Oss-Chaudhury-Good 模型（簡稱 VCG 模型）：Owens-Wendt 模型適用于多數低能固體材料（如高分子材料），需測量 2 種液體（1 種極性液體，如蒸餾水；1 種非極性液體，如二...

動態(tài)接觸角測量功能憑借對潤濕過程的動態(tài)捕捉能力，在多個領域的工藝優(yōu)化與質量控制中發(fā)揮重要作用。在涂料行業(yè)，通過分析涂料液滴在基材表面的動態(tài)接觸角曲線，可評估涂料的流平性：接觸角下降速率越快，說明涂料在基材表面鋪展能力越強，流平性越好；若曲線出現(xiàn)平臺期（接觸角長...

接觸角測量儀是東莞晟鼎精密儀器有限公司主營的表面性能檢測設備品類之一，其技術定位是為材料科學、化工、電子、醫(yī)療等領域提供精細的表面潤濕性能量化表征工具。該設備基于表面物理化學原理，通過捕捉液體在固體表面形成的接觸角圖像，分析固體表面的親水性、疏水性及表面自由能...

半導體制造對工藝潔凈度和精度要求極高，任何微小的污染或損傷都可能導致器件失效。RPS遠程等離子源通過其低損傷特性，在清洗和刻蝕步驟中發(fā)揮重要作用。例如，在先進節(jié)點芯片的制造中，RPS遠程等離子源可用于去除光刻膠殘留或蝕刻副產物，而不會對脆弱的晶體管結構造成影響...

在PECVD、LPCVD等薄膜沉積設備中，腔室內壁積累的非晶硅、氮化硅等沉積物會降低熱傳導效率，導致工藝漂移。RPS遠程等離子源通過定制化的氣體配方（如NF3/O2混合氣體），在200-400℃溫度范圍內實現(xiàn)高效腔室清洗。其中氟基自由基與硅基沉積物反應生成揮發(fā)...

涂層耐水性測試，通過測量水在涂層表面的動態(tài)接觸角，若接觸角長時間保持穩(wěn)定（10 分鐘內變化≤±2°），說明涂層耐水性優(yōu)。晟鼎精密的接觸角測量儀在動態(tài)測量中，優(yōu)化了圖像跟蹤算法，可自動識別液滴鋪展過程中的邊緣變化，即使液滴出現(xiàn)輕微振動（如環(huán)境氣流干擾），仍能精細...