物***相沉積金屬化工藝介紹物***相沉積(PVD)金屬化工藝,是在高真空環(huán)境下,將金屬源物質(zhì)通過物理方法轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嘣踊蚍肿樱S后沉積到陶瓷表面形成金屬化層。常見的PVD方法有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜等。以蒸發(fā)鍍膜為例,其流程如下:先把陶瓷工件置于真空室內(nèi)并進(jìn)行清潔處理,確保表面無雜質(zhì)。接著加熱金屬蒸發(fā)源,使金屬原子獲得足夠能量升華成氣態(tài)。這些氣態(tài)金屬原子在真空環(huán)境中沿直線運(yùn)動,碰到陶瓷表面后沉積下來,逐漸形成連續(xù)的金屬薄膜。PVD工藝優(yōu)勢***,沉積的金屬膜與陶瓷基體結(jié)合力良好,膜層純度高、致密性強(qiáng),能有效提升陶瓷的耐磨性、導(dǎo)電性等性能。該工藝在光學(xué)、裝飾等領(lǐng)域應(yīng)用***,比如為陶瓷光學(xué)元件鍍上金屬膜以改善其光學(xué)特性;在陶瓷裝飾品表面鍍金屬層,增強(qiáng)美觀度與抗腐蝕性。3D 打印陶瓷經(jīng)金屬化,可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)導(dǎo)電、焊接功能,適配精密場景。銅陶瓷金屬化

同遠(yuǎn)助力陶瓷金屬化突破行業(yè)瓶頸 陶瓷金屬化行業(yè)長期面臨鍍層附著力差、均勻性不足以及成本高等瓶頸問題,同遠(yuǎn)表面處理積極尋求突破。針對附著力難題,通過創(chuàng)新的 “表面活化 - 納米錨定” 預(yù)處理技術(shù),增加陶瓷表面粗糙度并植入納米鎳顆粒,明顯提升了鍍層附著力,解決了陶瓷與金屬結(jié)合不牢的問題。在鍍層均勻性方面,開發(fā)分區(qū)溫控電鍍系統(tǒng),依據(jù)陶瓷片不同區(qū)域特點(diǎn),精細(xì)調(diào)控中心區(qū)(溫度 50±1℃)和邊緣區(qū)(溫度 55±1℃)溫度,并實(shí)時調(diào)整電流密度(0.8 - 1.2A/dm2),將整片鍍層厚度偏差控制在 ±0.1μm 內(nèi)。成本控制上,通過優(yōu)化工藝、提高生產(chǎn)效率以及自主研發(fā)降低原材料依賴等方式,在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時,降低了生產(chǎn)成本,為行業(yè)提供了更具性價比的陶瓷金屬化解決方案 。銅陶瓷金屬化陶瓷金屬化中心解決陶瓷與金屬熱膨脹系數(shù)差異,常以梯度材料過渡層緩解界面應(yīng)力。

陶瓷金屬化是一種將陶瓷與金屬優(yōu)勢相結(jié)合的材料處理技術(shù),給材料的性能和應(yīng)用場景帶來了質(zhì)的飛躍。從性能上看,陶瓷金屬化極大地提升了材料的實(shí)用性。陶瓷本身具有高硬度、耐磨損、耐高溫的特性,但其不導(dǎo)電的缺點(diǎn)限制了應(yīng)用。金屬化后,陶瓷表面形成金屬薄膜,兼具了陶瓷的優(yōu)良性能與金屬的導(dǎo)電性,有效拓寬了使用范圍。例如,在電子領(lǐng)域,陶瓷金屬化基板憑借高絕緣性、低熱膨脹系數(shù)和良好的散熱性,能迅速導(dǎo)出芯片產(chǎn)生的熱量,避免因過熱導(dǎo)致的性能下降,**提升了電子設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性。在連接與封裝方面,陶瓷金屬化發(fā)揮著關(guān)鍵作用。金屬化后的陶瓷可通過焊接、釬焊等方式與其他金屬部件連接,實(shí)現(xiàn)與金屬結(jié)構(gòu)的無縫對接,顯著提高了連接的可靠性。在航空航天領(lǐng)域,陶瓷金屬化材料憑借低密度、**度以及良好的耐高溫性能,減輕了飛行器的重量,提升了發(fā)動機(jī)的熱效率和推重比,降低了能耗,為航空航天事業(yè)的發(fā)展提供了有力支持。此外,陶瓷金屬化降低了材料成本。相較于單一使用高性能金屬,陶瓷金屬化材料利用陶瓷的優(yōu)勢,減少了昂貴金屬的用量,在保證性能的同時,實(shí)現(xiàn)了成本的有效控制,因此在眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
陶瓷金屬化的工藝流程包含多個關(guān)鍵步驟。首先是陶瓷的預(yù)處理環(huán)節(jié),使用打磨設(shè)備將陶瓷表面打磨平整,去除瑕疵,再通過超聲波清洗,利用酒精、等溶劑徹底清理表面雜質(zhì),為后續(xù)工藝奠定良好基礎(chǔ)。接著進(jìn)行金屬化漿料的調(diào)配,按照特定配方將金屬粉末(如銀粉、銅粉)、玻璃料、添加劑等混合,通過球磨機(jī)充分研磨,制成流動性和穩(wěn)定性俱佳的漿料。然后采用絲網(wǎng)印刷或滴涂等方式,將金屬化漿料精細(xì)涂覆在陶瓷表面,嚴(yán)格把控漿料厚度和均勻性,一般涂層厚度在 15 - 30μm 。涂覆完成后,將陶瓷放入烘箱,在 100℃ - 180℃溫度下干燥,使?jié){料中的溶劑揮發(fā),初步固化在陶瓷表面。干燥后的陶瓷進(jìn)入高溫?zé)Y(jié)階段,置于高溫氫氣爐內(nèi),升溫至 1350℃ - 1550℃ ,在高溫和氫氣作用下,金屬與陶瓷發(fā)生反應(yīng),形成牢固的金屬化層。為進(jìn)一步提升金屬化層性能,通常會進(jìn)行鍍覆處理,如鍍鎳、鍍鉻等,通過電鍍工藝在金屬化層表面鍍上其他金屬。一次對金屬化后的陶瓷進(jìn)行多方面檢測,借助顯微鏡觀察微觀結(jié)構(gòu),使用萬能材料試驗(yàn)機(jī)測試結(jié)合強(qiáng)度等,確保產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)標(biāo) 。陶瓷金屬化需嚴(yán)格前處理(如粗化、清洗),確保金屬層與陶瓷表面的附著力和可靠性。

同遠(yuǎn)陶瓷金屬化在新興領(lǐng)域的潛力 隨著科技發(fā)展,新興領(lǐng)域?qū)Σ牧闲阅芴岢隽烁咭螅h(yuǎn)表面處理的陶瓷金屬化技術(shù)在其中潛力巨大。在量子通信領(lǐng)域,陶瓷金屬化產(chǎn)品有望憑借其低介電損耗、高絕緣性與穩(wěn)定的導(dǎo)電性能,為量子信號傳輸提供穩(wěn)定、低干擾的環(huán)境,保障量子通信的準(zhǔn)確性與高效性。在新能源汽車的電池管理系統(tǒng)中,同遠(yuǎn)金屬化的陶瓷基板可利用其高導(dǎo)熱性快速導(dǎo)出電池產(chǎn)生的熱量,同時憑借良好的絕緣性確保系統(tǒng)安全運(yùn)行,提高電池組的穩(wěn)定性與使用壽命。在航空航天的衛(wèi)星傳感器方面,同遠(yuǎn)的陶瓷金屬化材料能承受極端溫度、輻射等惡劣太空環(huán)境,為傳感器穩(wěn)定工作提供可靠保障,助力衛(wèi)星更精細(xì)地收集數(shù)據(jù) 。陶瓷金屬化,助力 LED 封裝實(shí)現(xiàn)小尺寸大功率的優(yōu)勢突破。銅陶瓷金屬化
銅因延展性、導(dǎo)熱導(dǎo)電性優(yōu),成為功率電子器件陶瓷金屬化常用材料。銅陶瓷金屬化
同遠(yuǎn)陶瓷金屬化在電子元件的應(yīng)用 在電子元件領(lǐng)域,同遠(yuǎn)表面處理的陶瓷金屬化技術(shù)應(yīng)用廣闊且成果斐然。以陶瓷片鍍金工藝為例,為解決陶瓷高硬度、低韌性、表面惰性強(qiáng)導(dǎo)致傳統(tǒng)電鍍工藝難以有效結(jié)合的問題,同遠(yuǎn)研發(fā)出特用工藝,滿足了傳感器、5G 通信模塊等高級電子元件需求。在 5G 基站光模塊項(xiàng)目中,同遠(yuǎn)金屬化的陶瓷基板憑借低介電損耗,信號傳輸損耗低于 0.5dB,鍍層可靠性通過 - 40℃至 125℃高低溫循環(huán)測試(1000 次),助力客戶產(chǎn)品通過 Telcordia GR - 468 認(rèn)證。在電子陶瓷元件方面,同遠(yuǎn)通過對氧化鋁、氧化鋯等陶瓷基材進(jìn)行金屬化處理,使元件既保持陶瓷高絕緣、低通訊損耗等特性,又獲得良好導(dǎo)電性,提升了電子元件在高頻電路中的信號傳輸穩(wěn)定性與可靠性 。銅陶瓷金屬化