山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-12-07

新能源電池生產(chǎn)過程中,電池極片、電芯外殼等部件的表面處理至關(guān)重要,等離子除膠設(shè)備在此領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。在電池極片生產(chǎn)中,極片表面可能會殘留粘結(jié)劑殘留等膠狀物質(zhì),這些物質(zhì)會影響極片的導(dǎo)電性能和電池的容量。等離子除膠設(shè)備可對極片表面進(jìn)行準(zhǔn)確除膠處理,徹底去除殘留膠漬,同時(shí)不會損傷極片基材,保障極片的性能。在電芯外殼生產(chǎn)中,針對金屬或塑料外殼表面的膠漬去除,等離子除膠設(shè)備也能有效作業(yè),確保外殼的密封性和外觀品質(zhì)。通過等離子除膠處理,能有效提升新能源電池的整體性能和使用壽命,推動(dòng)新能源電池產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。采用13.56MHz射頻電源技術(shù),確保等離子體分布均勻,功率調(diào)節(jié)誤差小于3%。山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè),等離子除膠設(shè)備

在半導(dǎo)體芯片封裝的關(guān)鍵工序中,等離子除膠設(shè)備正扮演著不可或缺的 “清潔衛(wèi)士” 角色。當(dāng)芯片完成光刻、蝕刻等步驟后,表面殘留的光刻膠若未徹底去除,會直接影響后續(xù)鍵合、封裝的精度,甚至導(dǎo)致電路短路等致命缺陷。傳統(tǒng)濕法除膠需使用強(qiáng)酸強(qiáng)堿溶液,不只易腐蝕芯片表面的精密結(jié)構(gòu),還會產(chǎn)生大量有害廢液,處理成本高且不符合環(huán)保要求。而等離子除膠設(shè)備則通過高頻電場激發(fā)惰性氣體(如氬氣、氮?dú)猓┬纬傻入x子體,這些帶有高能量的粒子會與光刻膠發(fā)生物理轟擊和化學(xué)反應(yīng),將有機(jī)膠層分解為二氧化碳、水蒸氣等易揮發(fā)氣體,再由真空泵快速抽離。整個(gè)過程無需化學(xué)試劑,只需控制氣體種類、功率和處理時(shí)間,就能實(shí)現(xiàn)微米級的準(zhǔn)確除膠。在某半導(dǎo)體企業(yè)的生產(chǎn)線上,該設(shè)備使芯片除膠良率有提升,單批次處理時(shí)間縮短 ,同時(shí)每年減少近 20 噸化學(xué)廢液排放,成為兼顧生產(chǎn)效率與環(huán)保要求的主要設(shè)備。山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)干式處理工藝徹底消除濕法清洗的二次污染風(fēng)險(xiǎn)。

山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè),等離子除膠設(shè)備

等離子除膠設(shè)備是現(xiàn)代制造業(yè)中高效去除物體表面膠層的關(guān)鍵設(shè)備,其主要原理是利用等離子體的高能特性與膠層發(fā)生物理和化學(xué)作用。設(shè)備通過產(chǎn)生包含大量活性粒子的等離子體,這些粒子高速運(yùn)動(dòng)撞擊膠層表面,既能破壞膠層的分子結(jié)構(gòu),又能與膠層成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將頑固膠層分解為易揮發(fā)的小分子物質(zhì),通過真空泵將這些物質(zhì)排出,實(shí)現(xiàn)物體表面的徹底除膠,且整個(gè)過程不會對基材造成損傷,適用于多種材質(zhì)的除膠需求。操作便捷性來看,工業(yè)等離子除膠設(shè)備具有明顯優(yōu)勢。設(shè)備采用智能化控制系統(tǒng),操作人員只需通過觸摸屏設(shè)置相關(guān)參數(shù),如除膠時(shí)間、等離子體功率、氣體流量等,設(shè)備即可自動(dòng)完成除膠作業(yè)。同時(shí),設(shè)備配備了完善的安全保護(hù)裝置,如過溫保護(hù)、過壓保護(hù)、氣體泄漏檢測等,確保操作人員的人身安全和設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。此外,設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)也較為簡單,定期清潔等離子體發(fā)生器、更換過濾元件等即可,降低了企業(yè)的運(yùn)維成本。

半導(dǎo)體行業(yè)對生產(chǎn)環(huán)境和零部件潔凈度的要求達(dá)到納米級別,等離子除膠設(shè)備成為半導(dǎo)體制造流程中的關(guān)鍵設(shè)備。在半導(dǎo)體芯片制造過程中,晶圓表面會殘留光刻膠、蝕刻殘留物等膠狀物質(zhì),這些物質(zhì)若未徹底去除,會嚴(yán)重影響芯片的電路性能和良率。等離子除膠設(shè)備采用高頻等離子體技術(shù),能準(zhǔn)確控制等離子體的能量密度和作用范圍,在不損傷晶圓表面電路結(jié)構(gòu)的前提下,將殘留膠漬分解為揮發(fā)性小分子并抽離,實(shí)現(xiàn)晶圓表面的超潔凈處理。此外,在半導(dǎo)體封裝環(huán)節(jié),針對引線框架等部件的膠漬去除,設(shè)備也能有效作業(yè),保障半導(dǎo)體器件的封裝質(zhì)量和可靠性。采用氬氣等惰性氣體,避免氧化反應(yīng)對敏感材料的損害。

山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè),等離子除膠設(shè)備

在工業(yè)生產(chǎn)中,等離子除膠設(shè)備憑借獨(dú)特的物理化學(xué)作用成為有效除膠利器。它通過電離氣體產(chǎn)生等離子體,這些高能粒子能快速撞擊物體表面的膠層。等離子體中的活性成分會打破膠層分子間的化學(xué)鍵,使頑固膠漬分解為小分子物質(zhì),部分物質(zhì)會隨氣流被抽走,剩余殘留物也會變得極易脫落。這種除膠方式無需依賴化學(xué)溶劑,避免了溶劑對工件的腐蝕和對環(huán)境的污染,同時(shí)能深入到工件的微小縫隙中,實(shí)現(xiàn)360度無死角除膠,尤其適用于精密零部件的表面處理,為后續(xù)的加工、組裝等工序奠定良好基礎(chǔ)。理后的基材表面會形成活性基團(tuán),可增強(qiáng)基材表面的附著力,便于后續(xù)加工。云南國產(chǎn)等離子除膠設(shè)備清洗

在失效分析中,無損去除封裝膠體暴露內(nèi)部結(jié)構(gòu)。山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

等離子除膠設(shè)備在低溫環(huán)境下的除膠性能穩(wěn)定,適用于對溫度敏感的工件除膠。部分工件如某些高分子材料工件、生物醫(yī)學(xué)材料工件等,對溫度較為敏感,在高溫環(huán)境下容易發(fā)生性能變化或損壞。等離子除膠設(shè)備的等離子體產(chǎn)生過程可在低溫下進(jìn)行,除膠過程中工件表面溫度通??刂圃?50℃以下,不會對溫度敏感工件的性能和結(jié)構(gòu)造成影響。例如,在生物芯片制造中,等離子除膠設(shè)備可在低溫下去除芯片表面的膠層,確保生物芯片的生物活性不受影響。山東等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

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